| 发明名称 |
METHOD OF COATING PHOTORESIST |
| 摘要 |
PURPOSE:To prevent improper side etching at etching step in a formation of electrode such as in a liquid crystal display. |
| 申请公布号 |
JPS51138433(A) |
申请公布日期 |
1976.11.30 |
| 申请号 |
JP19750062704 |
申请日期 |
1975.05.26 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
MORI YASUMASA;KOJIMA KENZOU |
| 分类号 |
G03C1/74;B05D7/24;G03F7/16;G09F9/35 |
主分类号 |
G03C1/74 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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