| 发明名称 |
Positive photoresist composition |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP0629917(B1) |
申请公布日期 |
1998.09.16 |
| 申请号 |
EP19940109203 |
申请日期 |
1994.06.15 |
| 申请人 |
SUMITOMO CHEMICAL COMPANY LIMITED |
发明人 |
HISHIRO, YOSHIKI |
| 分类号 |
G03F7/00;G02B5/20;G03F7/004;G03F7/028;G03F7/039;G03F7/105;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004;G03F7/095;G03C7/12;G03F7/022 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
