| 发明名称 |
A method to eliminate coil sputtering in an inductively coupled plasma (ICP) source |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0837490(A3) |
申请公布日期 |
1998.09.16 |
| 申请号 |
EP19970308280 |
申请日期 |
1997.10.17 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
XU, ZHENG;CHEN, FUSEN;NULMAN, JAIM |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/285;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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