| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체소자 제조용 이온주입장비의 이온발생장치에 관한 것으로서, 좀더 구체적으로는 장시간 사용에 따른 과열로 자주 끊어지는 필라멘트의 교체주기를 늘리도록 한 것이다. 이를 위해, 챔버(1)에 영전하를 인하가는 아크 전원부(4)와, 상기 챔버(1)내부에 반응가스를 공급하는 가스공급부(2)와, 양전하를 발생하는 캐소드 전원부(5)와, 상기 챔버(1)의 일측에 챔버와는 절연되게 설치되어 캐소드 전원부(5)로부터 양전하를 인가받도록 하는 캐소드(6)와, 열전자를 발생하는 필라멘트 전원부(8)와, 상기 캐소드(6)내에 설치되어 필라멘트 전원부(8)로부터 전류를 인가받음에 따라 열전자를 방출시키는 필라멘트(9)로 구성된 것에 있어서, 상기 캐소드(6)에 대향되도록 타측에 챔버(1)와는 절연되게 설치되어 캐소드 전원부(5)로부터 양전하를 인가받도록 하는 보조 캐소드(10)와, 상기 보조 캐소드내에 설치되어 필라멘트 전원부(8)로부터 전류를 인가받음에 따라 열전자를 방출시키는 보조 필라멘트(11)를 포함하여 상기 필라멘트(9)와 보조 필라멘트(11)를 선택적으로 사용하도록 한 것이다.</p> |
