| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR CHEMICAL MILLING, AND PHOTOSENSITIVE FILM USING IT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10246961(A) |
申请公布日期 |
1998.09.14 |
| 申请号 |
JP19970050266 |
申请日期 |
1997.03.05 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
ISHIKAWA TSUTOMU;KIMURA JINKO |
| 分类号 |
G03F7/004;C23F1/00;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/033;G03F7/085;H01L23/50;(IPC1-7):G03F7/085 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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