发明名称 웨이퍼 산화막 성장용 증기 발생장치
摘要 본 고안은 웨이퍼 산화막 성장용 증기 발생장치를 개시한다. 개시된 본 고안은, 수소와 산소의 토치 반응을 이용해서 웨이퍼의 산화막을 성장시키기 위한 증기를 발생시키는 웨이퍼 산화막 성장용 증기 발생장치에 있어서, 상기 수소와 산소의 인입통로(13,14)가 형성된 가스 인입부(1)와; 상기 가스 인입부(1)에 연결되어, 상기 수소와 산소의 토치 반응이 일어나 증기가 형성되는 증기 형성부(2)가 일체화된 것을 특징으로 한다.
申请公布号 KR19980037792(U) 申请公布日期 1998.09.15
申请号 KR19960050837U 申请日期 1996.12.18
申请人 null, null 发明人 류두열
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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