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发明名称
웨이퍼 산화막 성장용 증기 발생장치
摘要
본 고안은 웨이퍼 산화막 성장용 증기 발생장치를 개시한다. 개시된 본 고안은, 수소와 산소의 토치 반응을 이용해서 웨이퍼의 산화막을 성장시키기 위한 증기를 발생시키는 웨이퍼 산화막 성장용 증기 발생장치에 있어서, 상기 수소와 산소의 인입통로(13,14)가 형성된 가스 인입부(1)와; 상기 가스 인입부(1)에 연결되어, 상기 수소와 산소의 토치 반응이 일어나 증기가 형성되는 증기 형성부(2)가 일체화된 것을 특징으로 한다.
申请公布号
KR19980037792(U)
申请公布日期
1998.09.15
申请号
KR19960050837U
申请日期
1996.12.18
申请人
null, null
发明人
류두열
分类号
H01L21/31
主分类号
H01L21/31
代理机构
代理人
主权项
地址
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