| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING INSIDE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10242099(A) |
申请公布日期 |
1998.09.11 |
| 申请号 |
JP19970061895 |
申请日期 |
1997.02.28 |
| 申请人 |
PURE RETSUKUSU:KK;TOSHIBA CORP;TOSHIBA CERAMICS CO LTD |
发明人 |
MURAOKA HISASHI;NADAHARA SOUICHI;TOMITA HIROSHI;KOBAYASHI NORIO |
| 分类号 |
H01L21/322;H01L21/00;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/322 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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