| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING AND PATTERNING POLYSILICON LAYER AND LAYER STRUCTURE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH10242065(A) |
申请公布日期 |
1998.09.11 |
| 申请号 |
JP19980055804 |
申请日期 |
1998.02.20 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
DREYBRODT JOERG DR;DRESCHER DIRK DR;ZEDLITZ RALF;WEGE STEPHAN |
| 分类号 |
C23C16/30;C23C16/02;C23C16/24;C23C16/42;C23C16/44;C23F4/00;H01L21/108;H01L21/205;H01L21/28;H01L21/3213;H01L21/3215;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/30 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
