发明名称 | 晶片处理、传送和半导体制造装置及晶片处理和衬底制法 | ||
摘要 | 支架驱动机构用夹持部分固定晶片支架,并在晶片处理槽内摆动它。当晶片周边部分与摆动支撑部件的顶部接触时,晶片旋转并在晶片支架里垂直运动。晶片能被有效地摆动,能做到均匀处理。通过使用超声槽里的超声波,能够提高处理速率。 | ||
申请公布号 | CN1192580A | 申请公布日期 | 1998.09.09 |
申请号 | CN98105640.7 | 申请日期 | 1998.02.04 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 柳田一隆;坂口清文 |
分类号 | H01L21/304;H01L21/306;B65G49/07 | 主分类号 | H01L21/304 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
主权项 | 1、一种通过把晶片浸入处理液来处理晶片的晶片处理装置,包括:晶片处理槽;直接或间接固定晶片的固定部分;以及从所述处理槽的上部支撑所述固定部分的驱动部分,以在所述处理槽内摆动所述固定部分。 | ||
地址 | 日本东京都 |