发明名称 | 井下泥浆循环系统 | ||
摘要 | 构造成用钻杆吊悬在钻井内的井下工具,其包括外套壳、循环活塞、偏置元件和压力补偿系统。外套壳确定与钻杆内部敞开液体连通的液流腔,供液体在液流腔与钻井间流动的旁通口,与钻井敞开连通的泥浆腔,及由密封交界面从液流腔隔开的密封腔。循环活塞隔开液流腔与泥浆腔,并安排成响应液流腔压力而在旁通口阻挡位置与曝露位置间运动。偏置元件将循环活塞偏置在阻挡位置,压力补偿系统限制液流腔与密封腔间的压力差,从而限制跨越密封交界面压力差。 | ||
申请公布号 | CN1192502A | 申请公布日期 | 1998.09.09 |
申请号 | CN98104497.2 | 申请日期 | 1998.02.19 |
申请人 | 施卢默格海外有限公司 | 发明人 | W·R·奔森;A·J·沙姆帕;D·A·拉文卡 |
分类号 | E21B21/00 | 主分类号 | E21B21/00 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 林长安 |
主权项 | 1.一种构造成由钻杆吊悬于钻井内的井下工具,其特征在于,其包括:一个外套壳,所述外套壳确定:一个与所述钻杆内部敞开液体连通的液流腔;一个在所述液流腔和所述钻井之间的旁通口以供液体流通;一个与所述钻井敞开液体连通的泥浆腔;以及一个密封腔,所述密封腔由一个密封交界面将之与所述液流腔分隔开;一个循环活塞,所述循环活塞将所述液流腔和所述泥浆腔分隔开,并设置成用以响应液流腔内的压力而在第一位置和第二位置之间运动,所述第一位置为旁通口-阻挡位置,而所述第二位置为旁通口-暴露位置;一个偏置元件,所述偏置元件用以将所述循环活塞偏置到第一位置;及一个压力补偿系统,所述压力补偿系统用以限制所述液流腔和所述密封腔之间的压力差,从而限制所述密封交界面的压力差。 | ||
地址 | 巴拿马巴拿马城 |