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发明名称
PLASMA CVD METHOD OF METALLIC COATING, FORMATION OF METALLIC NITRIDE COATING AND SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
JPH10237662(A)
申请公布日期
1998.09.08
申请号
JP19970169027
申请日期
1997.06.25
申请人
SONY CORP
发明人
MIYAMOTO TAKAAKI
分类号
C23C8/38;C23C16/04;C23C16/08;C23C16/34;C23C16/50;C23C16/511;H01L21/285;(IPC1-7):C23C16/50
主分类号
C23C8/38
代理机构
代理人
主权项
地址
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