发明名称 PLASMA CVD METHOD OF METALLIC COATING, FORMATION OF METALLIC NITRIDE COATING AND SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH10237662(A) 申请公布日期 1998.09.08
申请号 JP19970169027 申请日期 1997.06.25
申请人 SONY CORP 发明人 MIYAMOTO TAKAAKI
分类号 C23C8/38;C23C16/04;C23C16/08;C23C16/34;C23C16/50;C23C16/511;H01L21/285;(IPC1-7):C23C16/50 主分类号 C23C8/38
代理机构 代理人
主权项
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