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发明名称
Chemical vapor deposition method for forming silicon oxide film
摘要
申请公布号
EP0517548(B1)
申请公布日期
1998.09.02
申请号
EP19920305192
申请日期
1992.06.05
申请人
NEC CORPORATION
发明人
HOMMA, TETSUYA
分类号
H01L21/316;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;(IPC1-7):C23C16/40;C23C16/30
主分类号
H01L21/316
代理机构
代理人
主权项
地址
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