发明名称 Plasmaätzverfahren und Reaktor zur Plasmabearbeitung
摘要
申请公布号 DE69226253(D1) 申请公布日期 1998.08.20
申请号 DE19926026253 申请日期 1992.12.23
申请人 APPLIED MATERIALS, INC., SANTA CLARA, CALIF., US 发明人 COLLINS, KENNETH S., SAN JOSE, CAL. 95112, US;YANG, CHAN-LON, LOS GATOS, CA 95032, US;WONG, JERRY YUEN-KUI, FREMONT, CA 94539, US;MARKS, JEFFREY, SAN JOSE, CA 95129, US;KESWICH, PETER R., NEWARK, CA 94560, US;GROECHEL, DAVID W., SUNNYVALE, CA 94087, US
分类号 C23C16/40;C23C16/517;H01J37/32;(IPC1-7):H01J37/32;H01L21/311 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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