| 发明名称 |
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND TARGET |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10219439(A) |
申请公布日期 |
1998.08.18 |
| 申请号 |
JP19970026912 |
申请日期 |
1997.02.10 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
TSUNEOKA MASATOSHI;TOKUMOTO TOSHIFUMI |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/35;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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