| 发明名称 |
FORMING METHOD OF INTERLAYER INSULATING FILM FOR SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR0144950(B1) |
申请公布日期 |
1998.08.17 |
| 申请号 |
KR19940017850 |
申请日期 |
1994.07.23 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO.,LTD |
发明人 |
OH, HEE-SUN |
| 分类号 |
H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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