发明名称 PROJECTIN EXPOSURE METHOD AND SYSTEM USED THEREFOR
摘要
申请公布号 KR0142645(B1) 申请公布日期 1998.08.17
申请号 KR19940003414 申请日期 1994.02.25
申请人 NEC CO.,LTD 发明人 TANABE, HIROYOSHI
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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