发明名称 Verfahren für das selektive Wachstum einer Dünnschicht auf einem gemusterten Substrat
摘要
申请公布号 DE69129722(D1) 申请公布日期 1998.08.13
申请号 DE1991629722 申请日期 1991.09.20
申请人 ANELVA CORP., FUCHU, TOKIO/TOKYO, JP;NEC CORP., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 AKETAGAWA, KEN-ICHI, FUCHU-SHI, TOKYO, JP;SAKAI, JUNRO, FUCHU-SHI, TOKYO, JP;TATSUMI, TORU, MINATO-KU, TOKYO, JP
分类号 C30B25/02;C30B25/18;H01L21/20;(IPC1-7):H01L21/20;C30B29/06 主分类号 C30B25/02
代理机构 代理人
主权项
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