发明名称 |
带有至少两个彼此绝缘的元件的集成电路装置及其生产方法 |
摘要 |
一个带有至少两个元件的集成电路装置在基片上包括一种在元件之间的绝缘结构(4’,5),该结构至少覆盖沟槽(3)的一个侧壁,并且其在沟槽底部比在沟槽颈部要厚。其中元件被设置在基片上部表面以及沟槽底部的不同平面里。绝缘结构形成元件之间的垂直绝缘。 |
申请公布号 |
CN1190490A |
申请公布日期 |
1998.08.12 |
申请号 |
CN96195393.4 |
申请日期 |
1996.06.24 |
申请人 |
西门子公司 |
发明人 |
F·劳;W·克劳斯内德尔;M·恩格哈特 |
分类号 |
H01L21/8242;H01L27/108;H01L21/763;H01L21/308 |
主分类号 |
H01L21/8242 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
马铁良;萧掬昌 |
主权项 |
1.集成电路装置,-其中,一个第一元件和一个第二元件在半导体基片(1)中被集成,-其中,一个沟槽(3)在半导体基片(1)中被设置,它从半导体基片(1)的主面(2)延伸至半导体基片(1)里,它备有一种绝缘结构(4’,5),使得第一元件和第二元件绝缘,-其中,至少沟槽(3)的一个侧壁有一个突起(3’),故而沟槽(3)的宽度在沟槽底部区域比在主面(2)上的区域大,-其中,在与侧壁邻界的并且在主面(2)的垂直方向上,绝缘结构(4’,5)从主面(2)延伸至沟槽底部,在此,绝缘结构(4’,5)的厚度在突起(3’)区域比在主面(2)上的要大,-其中,第一元件在主面(2)以及第二元件在沟槽底部被设置。 |
地址 |
联邦德国慕尼黑 |