发明名称 异丙醇之制造方法
摘要 在一种于高温、高压及强酸固体催化剂之存在下经由丙烯与水之直接液相水合来制造异丙醇之方法中,反应系发生在介于1OO℃与250℃范围内的温度及在介于60与2OOatm范围内的压力下且供应过剩的水。然后,在介于萃取剂临界温度与40℃高于此临界温度之温度范围内的温度及在介于萃取剂临界压力与2OOatm范围内的压力及在介于0.3与3范围之比率下,该比率之计算方程式为将萃取剂之量除以欲被萃取之原料之量,将经由反应所形成之液相与由具有3或4个碳原子之饱和烃所形成之萃取剂接触。最后,当异丙醇被由液相萃取之后,从如此所得之萃取相分离之。依据此方法,可减低浓缩异丙醇所需之能量,且亦可不必使用大型的制造设备。
申请公布号 TW338031 申请公布日期 1998.08.11
申请号 TW085102041 申请日期 1996.02.17
申请人 三井东压化学股份有限公司 发明人 小川伸二;平田繁
分类号 C07C29/05 主分类号 C07C29/05
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1.一种藉在强酸固体催化剂之存在下于高温及高压下经由直接水合丙烯及水及藉自所生成之反应混合物分离粗制异丙醇溶液接着纯化溶液而制造异丙醇之方法,其包括下列步骤:(1)连续地供应丙烯及水至填充或悬浮有俾使其等反应之固体催化剂的反应容器中,对于欲被反应之每一莫耳丙烯,水的量为至少一莫耳,并在温度介于100与250℃范围内及压力介于60与200atm范围内使反应发生;(2)连续地自反应容器萃取所有气相及液相反应混合物;(3)供应气相反应混合物至蒸馏塔以自塔底部去除杂质,该杂质主要系由包含于丙烯原料之丙烷所组成,以自塔顶部收集未反应丙烯,及将未反应丙烯回收于反应容器之入口;(4)使液相反应混合物与由具有3或4个碳原子之饱和烃所形成之萃取剂在温度为介于萃取剂之临界温度与40℃高于该临界温度之温度之间及在压力为介于萃取剂之临界压力与200atm之间及在S/F比率介于0.3至3之间下接触,及自液相反应混合物萃取经由反应所形成之异丙醇;(5)回收萃取后存留之大部份液体(主要由水所组成);及(6)自主要由饱和烃组成之萃取相分离异丙醇为高浓度溶液,且纯化溶液以得纯化之异丙醇。2.如申请专利范围第1项之制造异丙醇之方法,其更包括下列步骤:对于藉由液相反应混合物与萃取剂接触而得之主要由该饱和烃所组成之萃取相,藉减低其压力至该饱和烃之临界压力或更低者而自其分离出经由反应所形成之异丙醇作为高浓度溶液,并将之分成由主要由该饱和烃组成之气相及主要由异丙醇与水组成之液相。3.如申请专利范围第1项之制造异丙醇之方法,其更包括下列步骤:对于藉由液相反应混合物与萃取剂接触而得之主要由该饱和烃所组成之萃取相,在自萃取相分离经由反应所形成之异丙醇为高浓缩溶液之过程时,藉将萃取相冷却至该饱和烃之临界温度或更低者且同时大致上保持萃取相之压力而使萃取相分离为主要由该饱和烃组成之轻质液相及主要由异丙醇与水组成之重质液相。4.如申请专利范围第1至3项中任一项之制造异丙醇之方法,其更包括下列步骤:在自藉由液相反应混合物与萃取剂接触而获得之主要由该饱和烃所组成之萃取相分离经由反应所形成之异丙醇为高浓缩溶液之后,将大部份收集之该饱和烃回收供使用作萃取剂。5.如申请专利范围第4项之制造异丙醇之方法,其更包括下列诸步骤:萃取欲被回收供使用作萃取剂之一部份该饱和烃、供应该已被萃取之饱和烃以及气相反应混合物至蒸馏塔,及自蒸馏塔底部分离该饱和烃。6.如申请专利范围第1至3项中任一项之制造异丙醇之方法,其中该饱和烃为丙烷。7.如申请专利范围第4项之制造异丙醇之方法,其中该饱和烃为丙烷。8.如申请专利范围第5项之制造异丙醇之方法,其中该饱和烃为丙烷。9.如申请专利范围第1至3项中任一项之制造异丙醇之方法,其中在藉蒸馏法收集未反应之丙烯之过程时包含于丙烯原料中及自蒸馏塔底部分离之至少一部份该萃取剂丙烷乃被使用。10.如申请专利范围第4项之制造异丙醇之方法,其中在藉蒸馏法收集未反应之丙烯之过程时包含于丙烯原料中及自蒸馏塔底部分离之至少一部份该萃取剂丙烷乃被使用。11.如申请专利范围第5项之制造异丙醇之方法,其中在藉蒸馏法收集未反应之丙烯之过程时包含于丙烯原料中及自蒸馏塔底部分离之至少一部份该萃取剂丙烷乃被使用。12.如申请专利范围第6项之制造异丙醇之方法,其中在藉蒸馏法收集未反应之丙烯之过程时包含于丙烯原料中及自蒸馏塔底部分离之至少一部份该萃取剂丙烷乃被使用。13.如申请专利范围第7项之制造异丙醇之方法,其中在藉蒸馏法收集未反应之丙烯之过程时包含于丙烯原料中及自蒸馏塔底部分离之至少一部份该萃取剂丙烷乃被使用。14.如申请专利范围第8项之制造异丙醇之方法,其中在藉蒸馏法收集未反应之丙烯之过程时包含于丙烯原料中及自蒸馏塔底部分离之至少一部份该萃取剂丙烷乃被使用。图式简单说明:第一图为使本发明具体化之流理图。第二图为使本发明具体化之另一流程图。
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