| 主权项 |
1.一种式(1)之含氟光学活性化合物,(1)其中R1系饱和或不饱和和C3-C20烷基或饱和或不饱和C3-C20烷氧烷基;A1,A2及A3各表示下基团:先决条件为,当A1系缩合环基时,p及q之和为0或1,且A2及A3皆为单环基,或当A1为单环基时,p及q之和为1或2,先决条件为当p与q之和为2时,A2及A3皆为单环基;X为-CH2-CH2-,-CH=CH-或-C≡C-;W系氟原子或氢原子;n为1至10之整数;m,p及q各为0或1;u及w各为0至3之整数;且*表示不对称之碳原子。2.如申请专利范围第1项之含氟光学活性化合物,其中p系1且A3系下列基团之一其中u及w系如申请专利范围第1项之含氟光学活性化合物之定义。3.如申请专利范围第1项之含氟光学活性化合物,其中A1,A2及A3各为4.如申请专利范围第1项之含氟光学活性化合物,其中R1系烷基或烯基。5.如申请专利范围第1项之含氟光学活性化合物,其中R1系烷氧烷基,烯氧烷基,烷氧烯基或烯氧烯基。6.如申请专利范围第3项之含氟光学活性化合物,其中p为1且q为0。7.如申请专利范围第1至6中任一项之含氟光学活性化合物,其中W系氢原子且X系-CH2CH2-。8.如申请专利范围第7项之含氟光学活性化合物,其中A1及A2中有一者为且A1及A2中另一者为 。9.如申请专利范围第8项之含氟光学活性化合物,其系下式化合物:10.如申请专利范围第8项之含氟光学活性化合物,其系下式化合物:11.一种制备如申请专利范围第1项之式(1)含氟化合物之方法,其包括在-70至+100℃的温度下,以氟化剂(其量为5倍于醇衍生物(2))氟化下式所示之醇衍生物:(2)其中R1,A1,A2,A3,X,W,m,n,p及q系如申请专利范围第1项之含氟光学活性化合物之定义。12.一种液晶混合物,其包含如申请专利范围第1项之式(1)含氟光学活性化合物。13.一种液晶显示元件,其包括如申请专利范围第1项之式(1)含氟光学活性化合物。 |
