| 发明名称 |
VAPOR DEPOSITION METHOD OF THIN FILM CONTAINING TITANIUM AND NITROGEN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10209083(A) |
申请公布日期 |
1998.08.07 |
| 申请号 |
JP19980023734 |
申请日期 |
1998.01.21 |
| 申请人 |
TEXAS INSTR INC <TI> |
发明人 |
LU JOING-PING;HWANG MING-JANG |
| 分类号 |
C23C16/30;C23C16/34;C23C16/50;C23C16/56;H01L21/02;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/768;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/285;H01L21/320 |
主分类号 |
C23C16/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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