发明名称 | 质子治疗装置的能量调节系统 | ||
摘要 | 本发明公开了一种对质子束流散射度影响极小的质小治疗装置的能量调节系统,位于两传输管道(1)、(2)之间它主要由厚度可调的充满水(3)的容器(59)和厚度驱动调节机构(4)组成,由于水对质子束流的散射影响小、易实现连续可调,又是做治疗计划时人体组织的模拟替代物,因此,在适形扫描治疗方式和旋转治疗方式中能减少因散射而带来的相应设备的增加或增大以及治疗计划系统所进行的复杂的中间运算,从而降低成本和提高治疗精度。 | ||
申请公布号 | CN1189383A | 申请公布日期 | 1998.08.05 |
申请号 | CN98104507.3 | 申请日期 | 1998.01.08 |
申请人 | 深圳奥沃国际科技发展有限公司 | 发明人 | 魏开煜;陈荣范;金辉 |
分类号 | A61N5/10 | 主分类号 | A61N5/10 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 1质子治疗装置的能量调节系统,位于两传输管道(1)、(2)之间,包括:吸能物质(3)和厚度驱动调节机构(4),其特征在于:所述吸能物质(3)为水,放置并充满于容器中,容器在两传输管道(1)、(2)口之间的沿传输管道方向的厚度在厚度驱动调节机构(4)的作用下可调。 | ||
地址 | 518031广东省深圳市深南中路30号电子科技大厦2202室 |