半导体加工用超高纯盐酸的现场制备

摘要

用以下步骤现场制备用于半导体制造的高度纯化的HCl:从液体HCl储蓄器(11)中抽出HCl蒸气(12)以及在低pH值的含水涤气器(17)中洗涤经过滤的蒸气(15)。

主权项

1.一种在半导体设备制造工厂中为半导体制造操作提供含HCl的超高纯试剂的现场辅助体系，该体系包括：一个连接到液体HCl源并由它提供HCl蒸气流的汽化源；所述的HCl蒸气流被连接以通过离子纯化装置，它使含有高浓度盐酸的高纯水循环流与所述的HCl蒸气流接触；以及一个连接的制备装置，它接收来自所述的纯化装置的所述HCl蒸气流，并使所述的HCl蒸气与含水液体合并，制得含有HCl的超纯含水溶液；以及一个管系，它将所述的含水溶液送到半导体设备制造工厂的各使用点。