| 摘要 |
본 고안은 화학기상증착장치의 기화장치에 관한 것으로, 종래 기술에 의한 화학기상증착장치의 기화장치는 히터와 액체소오스를 공급하는 공급관의 접촉면적이 작아 기화효율이 떨어질뿐만 아니라 사용시간이 증가함에 따라 상기 히터에서 기화된 액체소오스에 의하여 상기 공급관이 막히게 되는 문제점을 초래하였다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 고안은 아래 도면에 도시된 바와 같이 단부에 형성된 다지관(14a')을 갖는 공급관(14a) 또는 단부가 확산된 공급관, 그리고 소정의 직경을 갖는 다수개의 공급관, 그리고 또 단부에 소정의 공간을 갖도록 공간부가 형성된 공급관, 그리고 또 단부에 다수개의 공급구가 형성된 공급관을 설치하므로써, 상기 공급관(14a)과 히터(13a)의 접촉면적이 증대하게 되어 그 히터에 의하여 흡수되고 가열기화되는 상기 액체소오스와 기화효율이 증대됨과 아울러 상기 기화된 액체소오스에 의하여 상기 공급관(14a)이 막히는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있게 된다. |
