发明名称 LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号 KR0120945(Y1) 申请公布日期 1998.08.01
申请号 KR19940001546U 申请日期 1994.01.27
申请人 HWANG, CHOL-JOO 发明人 HWANG, CHOL-JOO
分类号 H01L21/20;(IPC1-7):H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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