| 发明名称 |
ANALYTICAL METHOD AND DEVICE OF SUBSTRATE INCIDENT NEGATIVE ION IN ETCHING PLASMA |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10199473(A) |
申请公布日期 |
1998.07.31 |
| 申请号 |
JP19970000166 |
申请日期 |
1997.01.06 |
| 申请人 |
ULVAC JAPAN LTD |
发明人 |
HAYASHI TOSHIO;MIZUTANI NAOKI;CHIN TAKASHI |
| 分类号 |
H01J49/04;H01J49/10;H01J49/26;H01J49/44;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J49/04;H01L21/306 |
主分类号 |
H01J49/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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