发明名称 | 一种钕钡铜氧超导单晶体的制备方法 | ||
摘要 | 一种钕钡铜氧超导单晶体的制备方法,特别是适用于生长钕钡铜氧单晶体籽晶的制造。其特征在于:配料原料中含钕、钡、铜的比例(克原子比)为Nd∶Ba∶Cu=1∶(2+x)∶3,其中x=0.2~0.8;晶体生长过程是将压块后的混合料块加热在富钡条件下,进行包晶反应,熔化生长晶体。本发明采用富钡原料配比,直接将配制好料块进行熔融生长热处理,不需要坩埚和其它的籽晶及机械系统,在普通的烧结炉中即可完成晶体生长过程,操作简单,经济可靠。 | ||
申请公布号 | CN1188822A | 申请公布日期 | 1998.07.29 |
申请号 | CN97121888.9 | 申请日期 | 1997.12.11 |
申请人 | 西北有色金属研究院 | 发明人 | 周廉;杨万民;冯勇;张萍;张平祥;吴晓祖 |
分类号 | C30B29/22;C30B1/00 | 主分类号 | C30B29/22 |
代理机构 | 中国有色金属工业总公司专利事务所 | 代理人 | 李迎春;王连发 |
主权项 | 1.一种钕钡铜氧超导单晶体的制备方法,包括将Nd2O3、BaCO3、CuO原料粉末混合、煅烧、研磨配制粉料,混合粉料压块,晶体生长,晶体分离过程,其特征在于:a.制备混合粉末时配料原料中含钕、钡、铜的比例(克原子比)为Nd∶Ba∶Cu=1∶(2+x)∶3,其中x=0.2~0.8;b.晶体生长过程是将压块后的混合料块加热在富钡条件下,进行包晶反应,熔融生长晶体,工艺过程及条件为:将混合料块加热至940℃,恒温烧结10~24小时;再升温到1150℃~1200℃,保温0.5~3小时;然后将温度降至1070℃~1090℃,其降温速率为50℃~180℃/小时;再将温度降至980℃~1040℃,其降温速率为0.5℃~3℃/小时;然后将温度降至室温,其降温速率为120℃~300℃/小时降至室温;c.其生长单晶体的分离是在室温下,从反应后的混合料块中,由料块自动破碎而与其分离的。 | ||
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