| 发明名称 | 阳极化处理设备和与该设备有关的方法 | ||
| 摘要 | 由抗HF材料制成的支持器,包括环形吸气衬垫(105,108)。吸气衬垫(105)利用吸力支持小的硅衬底,吸气衬垫(108)利用吸力支持大的硅衬底。这样就可处理具有各种尺寸的硅衬底。利用泵减少吸气衬垫沟内空间的压力用吸力支持硅衬底。在该支持器中形成开口使得硅衬底的两个表面与HF溶液接触。使用铂作为正负电极并通过施加直流电压对硅衬底进行阳极化处理,制造具有多孔层的衬底。 | ||
| 申请公布号 | CN1188820A | 申请公布日期 | 1998.07.29 |
| 申请号 | CN97123026.9 | 申请日期 | 1997.11.27 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 山方宪二 |
| 分类号 | C25D11/32 | 主分类号 | C25D11/32 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种用于在电解溶液中对衬底进行阳极化处理的阳极化处理设备，包括：一对对置电极；和支持单元，用于在所述电极间利用吸力支持衬底的一个表面的一部分。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||