Verfahren zum Einbringen von nicht als Diffusionsmaske wirkenden Schichten oder OEffnungen in eine,einen Halbleiterkoerper bedeckende Siliziumnitridschicht
摘要
申请公布号
DE1621522(A1)
申请公布日期
1970.07.30
申请号
DE19671621522
申请日期
1967.05.13
申请人
TELEFUNKEN PATENTVERWERTUNGSGESELLSCHAFT MBH
发明人
WERNER LANGHEINRICH,DIPL.-CHEM.DR.;ILSE FRAENZ,DR.
