首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD FOR FORMING A LITHOGRAPHIC PATTERN IN A PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICES
摘要
申请公布号 EP0634028(B1) 申请公布日期 1998.07.22
申请号 EP19930912115 申请日期 1993.03.29
申请人 MICROUNITY SYSTEMS ENGINEERING, INC. 发明人 CHEN, JANG, FUNG;MATTHEWS, JAMES, A.
分类号 G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com