| 摘要 |
<p>L'invention concerne un appareil de revêtement par dépôt en phase vapeur. L'invention concerne plus particulièrement un appareil permettant de réguler avec soin la densité du courant ionique, afin d'améliorer le revêtement. Cette régulation permet donc à un seul appareil d'effectuer un dépôt dans des conditions aussi diverses que favorables, des dépôts aux propriétés très différentes pouvant ainsi être déposés par un seul et même appareil. L'appareil de dépôt en phase vapeur comprend une chambre à vide (1), au moins un organe de revêtement, ou source d'ionisation (3), placé sur la circonférence d'une zone de revêtement (2) ou à proximité de celle-ci, et un ou plusieurs organes magnétiques intérieurs (6), disposés de manière à ce que le champ magnétique produise des lignes (7) sur ladite zone de revêtement (2). L'appareil compo rte enfin des organes destinés à modifier l'intensité ou la position des lignes de champ magnétique, afin de contribuer à la formation de volumes de confinement dans ledit appareil.</p> |
