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发明名称 Verfahren und Vorrichtung unter Verwendung eines ArF Photoresists
摘要
申请公布号 DE19800633(A1) 申请公布日期 1998.07.16
申请号 DE19981000633 申请日期 1998.01.09
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD., ICHON, KYOUNGKI, KR 发明人 JUNG, JAE CHANG, ICHON, KYOUNGKI, KR;ROH, CHI HYEONG, ICHON, KYOUNGKI, KR;PARK, JOO ON, ICHON, KYOUNGKI, KR
分类号 G03F7/027;C08F2/48;C08F226/02;C08F232/00;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):C08F232/04 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
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