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发明名称 Positiv arbeitende Fotoresistzusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69600202(T2) 申请公布日期 1998.07.16
申请号 DE19966000202T 申请日期 1996.09.20
申请人 FUJI PHOTO FILM CO., LTD., MINAMI-ASHIGARA, KANAGAWA, JP 发明人 KAWABE, YASUMASA, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD., HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP;TAN, SHIRO, C/O FUJI PHOTO FILM CO., LTD, HAIBARA-GUN, SHIZUOKA, JP
分类号 G03F7/023;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/023 主分类号 G03F7/023
代理机构 代理人
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