发明名称 | 半导体集成电路及其制造方法 | ||
摘要 | 把本来所需金属布线层的层数不同的多个宏单元混合配置到同一LSI芯片上,抑制布线电阻的增大,从而抑制电压降和布线延迟的增大。在LSI衬底上形成的N(N≥3)层以上布线层的多种宏单元之内的至少一个宏单元,具备由第(N-2)布线层形成的布线图形,有第(N-1)布线层的第(N-1)层布线图形和第(N-1)层布线接触图形,与第(N-1)层布线图形相同的第N层布线图形和与第(N-1)层布线接触图形相同的第N层布线接触图形。 | ||
申请公布号 | CN1187691A | 申请公布日期 | 1998.07.15 |
申请号 | CN98104205.8 | 申请日期 | 1998.01.08 |
申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 和田修;芳贺亮;矢部友章;宫野信治 |
分类号 | H01L21/768;H01L21/82;H01L23/52 | 主分类号 | H01L21/768 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
主权项 | 1、一种半导体集成电路,具备:在半导体衬底上边形成的分别具有由金属布线层构成的N(N≥3)层布线的第1宏单元;和在同一半导体衬底上边形成,具有与上述第1宏单元相同的分别由金属布线构成的N(N≥3)层金属布线层第2宏单元,其特征是,上述2个宏单元之内的一方的宏单元具备:由第(N-2)布线层形成的第(N-2)层布线图形;由第(N-1)布线层形成的第(N-1)层布线层图形;由上述第(N-1)布线层形成的第(N-1)层布线接触图形;由第N布线层形成,与上述第(N-1)层布线图形具有相同的图形的第N层布线图形;由上述第N层布线形成,与上述(N-1)层布线接触图形具有相同的图形的第N层布线接触图形;使上述第(N-1)层布线接触图形连接到上述第(N-2)层布线接触图形上的第1接触塞;以及使上述第N层布线接触图形连接到上述第(N-1)层布线接触图形上的第2接触塞。 | ||
地址 | 日本神奈川 |