| 发明名称 |
CLEANSING LIQUID, ITS FORMULATION AND PRODUCTION, CLEANSING, AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10183185(A) |
申请公布日期 |
1998.07.14 |
| 申请号 |
JP19960343482 |
申请日期 |
1996.12.24 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI VLSI ENG CORP |
发明人 |
TAKAHARA YOICHI;SATO TAKAO;SAITO AKIO;OKA HITOSHI;HIRAIWA ATSUSHI;TAKAHASHI KENJI;TANAKA KENJI;TAKESHIMA YUTAKA |
| 分类号 |
C11D7/04;C11D7/18;C11D7/32;H01L21/304;(IPC1-7):C11D7/18 |
主分类号 |
C11D7/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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