| 主权项 |
1.一种投影校正装置,其包括:一光源;一孔径,用于整形照明光和形成一二次光源面;一遮板,具有一开口部分用来设定曝光区域;-一光罩,具有一电路图案和被自二次光源面发出之照明光照明;一投影光学系统,其用于投影该光罩之一电路图案,藉由自该光罩绕射之绕射光在一曝光基板上形成一影像;及一消像差滤光器,置于该投影光学系统之一瞳面上,用于消除一像差;其中该消像差滤光器包括:一透明基板;和一透明多层膜,在该透明基板之至少一主面上形成,用于调整波面;及该透明多层膜具有一膜厚分布,藉此补偿该投影光学系统之一像差发生之波面的移动。2.一种消像差滤光器,置于一投影光学系统之一瞳面上,用于消除一像差,该消像差滤光器包括:一透明基板;和一波面调整透明多层膜,形成在至少一个主面上:其中该透明多层膜具有一膜厚分布,藉此补偿该投影光学系统之一像差发生之波面的移动。3.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有同心环状层,且更具一断面,其形状像一钵之断面且以一正四次函数表示,其中该透明多层膜消除一正球面像差。4.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有同心圆状层,且更具一断面,其形状像一圆顶之断面且以一负四次函数表示,其中该透明多层膜消除一负球面像差。5.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有一断面,其形状在一方向像一钵之断面且以一正二次函数表示,其中该透明多层膜消除一正像散像差。6.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有一断面,其形状在一方向像一圆顶之断面且以一负二次函数表示,其中该透明多层膜消除一负像散像差。7.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有同心环状层,且更具一断面,其形状像一钵之断面且以一正二次函数表示,其中该透明多层膜消除一正像面弯曲。8.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有同心圆状层,且更具一断面,其形状像一圆顶之断面且以一负二次函数表示,其中该透明多层膜消除一负像面弯曲。9.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有一断面,其形状在一方向以一线性函数表示,其中该透明多层膜消除一失真像差。10.如申请专利范围第2项所述之滤光器,其中该透明多层膜具有一断面,其形状在一方向以一三次函数表示,其中该透明多层膜消除一彗形像差。11.一种半导体装置制造方法,其包括下列步骤:经整形一光源发出之照明光形成一二次光源面;设定一曝光区域;以自一二次光源面发出之照明光照明一光罩;自该光罩绕射之光形成一光源之一影像在一瞳面上;在一投影光学系统之瞳面上补偿一波面像差;及藉由投影一电路图案在一晶圆上制造一半导体装置;其中由利用至少一个包括一透明基板和一形成在该透明基板上之至少一个主面上用于调整波面之透明多层膜之消像差滤光器补偿波面像差在该投影光学系统之该瞳面上;及该透明多层膜具有一膜厚分布,藉此补偿该投影光学系统之一像差发生之波面的移动。图式简单说明:第1图系本发明实施例1之投影校正装置的构成示意图;第2图系本发明实施例2之投影曝光方法之示意图;第3A图系本发明实施例3之像差评估光罩图案的平面图;第3B图系当曝光第3A图的光罩图案时获得之转移图案的示意图;第4A和4B图分别为本发明实施例4之球面像差评估方法所获得之微细图案和大图案的最佳焦点位置;第5A和5B图分别为本发明实施例5之像散像差评估方法所获得之横方向图案元素和纵方向图案元素的最佳焦点位置;第6A和6B图分别为本发明实施例6之像面臂曲评估方法所获得之微细图案和大图案的最佳焦点位置;第7图系本发明实施例7之彗形像差评估方法用之转移图案之示意图;第8图系本发明实施例8之失真像差评估方法用之转移图案之示意图;第9A和9B图系本发明实施例10用于补偿正球面像差之消像差滤光器的断面图和斜视图;第10A和10B图系本发明实施例11用于补偿负球面像差之消像差滤光器的断面图和斜视图;筑11A和11B图系本发明实施例12用于补偿正像散像差之消像差滤光器的断面图和斜视图;第12A和12B图系本发明实施例13用于补偿负球面像差之消像差滤光器的断面图和斜视图;第13A和13B图系本发明实施例14用于补偿正像面弯曲之消像差滤光器的断面图和斜视图;第14A和14B图系本发明实施例15用于补偿负像面弯曲之消像差滤光器的断面图和斜视图;第15A和15B图系本发明实施例16用于补偿失真像差之消像差滤光器的断面图和斜视图;第16A和16B图系本发明实施例17用于补偿彗形像差之消像差滤光器的断面图和斜视图;第17A和17B图系本发明实施例18之消像差滤光器的断面和斜视图;第18图系本发明实施例19各种像差合成情况的波面转移之斜视示意图;第19图系习知投影校正装置之构成的示意图;及第20A至20E图分别为瞳上之球面像差、像散像差、像面弯曲、失真像差和彗形像差之示意图。 |
