使雷射光谱仪系统中之波长稳定的方法

摘要

本案所提供的是对光谱测量有用的稳定雷射光谱仪中之波长的一种新方法。依据该方法，一初始扫描系被执行，其包含施加一电流或电压信号至一雷射。此扫描中，一电流或电压值系渐进地从一最小信号值增加至一最大信号值涵盖一预定的全部数值之信号值。该最小与最大信号值系被选择，以致一待测样品之吸收特性落在由该最小与该最大信号值之扫描范围内。至于前一次扫描中施加的信号值由侦检器之输出分析对应于前一次扫描之信号值，该吸收特性之相对位置系被测定。一吸收值对应于该吸收特性系被测定，和该待测样品之浓度可选择被计算。一新电流或电压信号扫描系由重置前一次扫描之信号值而界定，以便使该新电流或电压扫描中之吸收特性就施加的信号值而言如前一次扫描在相同相对位置。一额外的扫描系被执行，以及该等步骤可被重覆直到完成光谱测量。本发明之方法考虑到波长能即时自动修正与稳定而不需要从光谱资料中测定受关注分子类之浓度超出一般的需要做大量计算。特别的应用系见于可调二极体雷射吸收光谱学（ＴＤＬＡＳ）。

主权项

1.一种对光谱测量有用的稳定二极体雷射光谱仪中波长的方法,包含:(a)执行一初始扫描,其包含施加一电流至一二极体雷射,其中一电流値系被渐进地从一最小电流値增加至一最大电流値涵盖一预定的全部数値之电流値,其中最小与最大电流値系被选择以致一待测样品之吸收特性落在最小与最大电流値之扫描范围内;(b)关于前一次扫描中施加的电流値由侦检器之信号分析系对应于前一次扫描中之电流値则该吸收特性之相对位置系被测定;(c)测定一对应于该吸收特性之吸收信号;(d)可选择计算待测样品之浓度;(e)重置前一次扫描之该等电流値用以界定一新电流扫描,以便使该新电流扫描中之吸收特性就施加的电流値而言如前一次扫描在相同相对位置;(f)执行一附加的扫描;和(g)重覆步骤(b)至(f)直到完成光谱测量。2.依据申请专利范围第1项之稳定波长之方法,其中在步骤(d)中,在每次扫描后浓度才被计算。3.依据申请专利范围第1项之稳定波长之方法,其中在步骤(d)中,按顺序扫描全部数値一遍且平均吸收信号被测定后浓度才被计算。4.依据申请专利范围第1项之稳定波长之方法,其中待测权品系水蒸气、氧化氮、一氧化碳或甲烷。5.依据申请专利范围第1项之稳定波长之方法,其中该待测权品系水蒸气。6.依据申请专利范围第1项之稳定波长之方法,其中该二极体雷射光谱仪系被用在一半导体处理系统中检测一气态分子类。7.一种对光谱测量有用的稳定二极体雷射光谱仪中之波长的方法,包含:(a)执行一初始扫描,其包含施加一电流至一二极体雷射,其中一电流値系渐进地从一最小电流値增加至一最大电流値涵盖一预定的全部数値之电流値,其中该等最小与最大电流値系被选择以致一待测样品之吸收特性落在最小与最大电流値之扫描范围内;(b)关于前一次扫描中施加的电流値由侦检器之信号分析系对应于前一次扫描中之电流値则该吸收特性之相对位置系被测定;(c)测定一对应于该吸收特性之吸收信号;(d)可选择计算待测样品之浓度。(e)在施加的电流値方面当吸收特性之相对位置超过一预定的选点时,重置前一次扫描之电流値用以界定一新电流扫描,以便使该新电流扫描中之吸收特性就施加的电流値而言如前一次扫描在相同相对位置;(f)执行一附加的扫描;和(g)重覆步骤(b)至(f)直到完成该光谱测量8.依据申请专利范围第7项之稳定波长之方法,其中于步骤(d)中,在每次扫描后浓度才被计算出。9.依据申请专利范围第7项之稳定波长之方法,其中于步骤(d)中,按顺序扫描全部数値一遍且平均吸收信号被测定后浓度才被计算。10.依据申请专利范围第7项之稳定波长之方法,其中该待测样品系水蒸气、氧化氮、一氧化碳或甲烷。11.依据申请专利范围第10项之稳定波长之方法,其中该待测样品系水蒸气。12.依据申请专利范围第7项之稳定波长之方法,其中该二极体雷射光谱仪系被用在一半导体处理系统中检测一气态分子类。13.一种对光谱测量有用的稳定一雷射光谱仪中之波长的方法,包含:(a)执行一初始扫描,其包含施加一电流或电压信号至一电射,其中电流或电压信号値系渐进地从一最小信号値增加至一最大信号値涵盖一预定的全部数値之信号値,其中最小与最大信号値系被选择,以致一待测样品之吸收特性落在最小与最大信号値之扫描范围内;(b)关于前一次扫描中施加的信号値由侦检器之输出分析系对应于前一次扫描中之电流信号値则该吸收特性之相对位置系被测定;(c)测定一对应于该吸收特性之吸收値;(d)可选择计算该待测样品之浓度;(e)界定一新电流或电压信号扫描藉由重置前一次扫描之信号値,以致使新信号扫描中之吸收特性就前一次扫描中施加的信号値而言在相同相对位置;(f)执行一附加的扫描;和(g)重覆步骤(b)至(f)直到完成该光谱测量14.依据申请专利范围第13项之稳定波长之方法,其中于步骤(d)中,在每次扫描后浓度才被计算。15.依据申请专利范围第13项之稳定波长之方法,其中于步骤(d)中,按顺序扫描全部数値一遍且平均吸收信号被测定后浓度才被计算。16.依据申请专利范围第13项之稳定波长之方法,其中该待测样品系水蒸气、氧化氮、一氧化碳或甲烷。17.依据申请专利范围第16项之稳定波长之方法,其中该待测样品系水蒸气。18.依据申请专利范围第13项之稳定波长之方法,其中该二极体雷射光谱仪系被用在一半导体处理系统中检测一气态分子类。19.一种对光谱测量有用的稳定二极体雷射光谱仪中之波长的方法,包含:(a)执行一初始扫描,其包含施加一电流或电压信号至一雷射,其中一电流或电压信号値系渐进地从一最小信号値增加至一最大信号値涵盖一预定的全部数値之信号値,其中最小与最大信号値系被选择,以致一待测样品之吸收特性落在该最小与该最大信号値之扫描范围内;(b)关于前一次扫描中施加的信号値由侦检器之输出分析系对应于前一次扫描中之信号値则该吸收特性之相对位置系被测定;(c)测定一对应于该吸收特性之吸收値;(d)可选择计算该待测样品之浓度;(e)在施加的电流或电压信号値方面当吸收特性之相对位置超过一预定的选点时,重置前一次扫描之电流値用以界定一新电流或电压信号扫描,以便使该新电流扫描中之吸收特性就施加的电流値而言如前一次扫描在相同相对位置;(f)执行一附加的扫描;和(g)重覆步骤(b)至(f)直到完成该光谱测量20.依据申请专利范围第19项之稳定波长之方法,其中于步骤(d)中,在每次扫描后浓度才被计算。21.依据申请专利范围第19项之稳定波长之方法,其中于步骤(d)中,按顺序扫描全部数値一遍且平均吸收値被测定后浓度才被计算。22.依据申请专利范围第19项之稳定波长之方法,其中该待测样品系水蒸气、氧化氮、一氧化碳或甲烷。23.依据申请专利范围第22项之稳定波长之方法,其中该待测样品系水蒸气。24.依据申请专利范围第19项之稳定波长之方法,其中该二极体雷射光谱仪系被用在一半导体处理系统中检测一气态分子类。