发明名称 Negativ arbeitende Photoresistzusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69317347(T2) 申请公布日期 1998.07.09
申请号 DE19936017347T 申请日期 1993.08.19
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD., OSAKA, JP 发明人 UEDA, YUJI, IZUMI-SHI, JP;TAKEYAMA, NAOKI, SETTSU-SHI, JP;UEKI, HIROMI, MISHIMA-GUN, OSAKA, JP;KUSUMOTO, TAKEHIRO, TAKARAZUKA-SHI, JP;NAKANO, YUKO, IBARAKI-SHI, JP
分类号 G03F7/004;G03F7/029;G03F7/038;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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