| 摘要 |
<P>Procédé de fabrication d'une microstructure tridimensionnelle consistant à:<BR/>a) créer sur une plaquette-support (4) un revêtement sacrificiel (5);<BR/>b) étaler en une seule fois 150 mum et 700 mum de photorésist négatif (6, 21), sensible au rayonnement ultraviolet;<BR/>c) chauffer;<BR/>d) effectuer à travers un masque (7, 12) une illumination UV;<BR/>e) effectuer un recuit;<BR/>f) reproduire au moins une fois les étapes b) à e) en utilisant, si nécessaire en fonction du contour désiré pour la structuration de la nouvelle couche (8, 23, 27) de photorésist, un masque (9, 24, 28) différent pour l'étape d);<BR/>g) développer en une ou plusieurs fois, et<BR/>h) séparer de la plaquette-support (4) la microstructure par dissolution du revêtement sacrificiel (5).<BR/>Microstructures obtenues par ledit procédé, telle qu'une roue dentée surmontée d'un pignon, un micromoule pour l'obtenir, et un microcapteur de flux thermique.</P>
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