| 摘要 |
<p>Es wird ein Reinigungssystem zum Reinigen an der Oberfläche vorgeschlagen, das aufweist: ein Reinigungswerkzeug (2) mit einem Arbeitsbereich (A) und einer UV-Lichtquelle (7), deren UV-Strahlung im Arbeitsbereich (A) aus dem Werkzeug (2) austritt und ein Reinigungsmittel, das ein fotoaktivierbares Halbleitermaterial (3) enthält, wobei über eine Lichtleiteinrichtung (9, 14) UV-Strahlung im Arbeitsbereich (A) unmittelbar in das fotoaktivierbare Halbleitermaterial (3) eingekoppelt wird.</p> |
