| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Magnetron-Kathodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat mittels einer in einer Vakuumkammer angeordneten Zerstäubungskathode mit einem Target und einem stufenweise und/oder kontinuierlich veränderbaren Magnetfeld im Bereich der Oberfläche des Targets.</p> |
