发明名称 3,4,5-单取代或多取代吡咯烷酮-2化合物的合成工艺
摘要 提供一种由γ-硝基羧酸酯直接合成吡咯烷酮-2的工艺,该合成工艺通过将还原剂改换为复合还原剂(氯化镍/硼氢化钠/水合肼),达到工艺大大优化,收率提高一倍,操作更为简化,更易于扩大规模生产的目的。
申请公布号 CN1186071A 申请公布日期 1998.07.01
申请号 CN97123417.5 申请日期 1997.12.27
申请人 中国科学院昆明植物研究所 发明人 杨小生;郝小江;汪冶
分类号 C07D207/26 主分类号 C07D207/26
代理机构 云南协立专利事务所 代理人 马晓青;吴平
主权项 1、3,4,5-单取代或多取代吡咯烷酮-2的合成工艺,其特征是以甲醇或乙醇为溶剂三倍量的硼氢化钠还原氯化镍为硼化镍,再与过量的水合肼还原由通式II所示的多取代γ-硝基羧酸酯化合物,通式II形成通式I所示的化合物:<img file="A9712341700021.GIF" wi="1341" he="314" />通式I中R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>、R<sup>4</sup>代表相同或不同的氢,烷基,取代苯基,取代苄基;R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>、R<sup>4</sup>代表不同的取代基时,包括形成的各种立体异构体;通式II中R为甲基或乙基,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>、R<sup>4</sup>代表相同或不同的氢,烷基,取代苯基,取代苄基,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>、R<sup>4</sup>代表不同的取代基时,包括形成的各种立体异构体。
地址 650204云南省昆明市黑龙潭