| 发明名称 |
Inductively coupled plasma reactor with symmetrical parallel multiple coils having a common RF terminal |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0833367(A3) |
申请公布日期 |
1998.07.01 |
| 申请号 |
EP19970307264 |
申请日期 |
1997.09.18 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
QIAN, XUE-YU;SATO, ARTHUR |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C16/50;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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