发明名称 利用超临界状态的分散方法与分散装置
摘要 利用超临界流体使固体与液体等的微粒均匀分散于溶剂中的分散方法与装置。将固体、液体等的分散介质与溶剂混合,将此混合物提供给超临界容器。向此超临界容器内提供超临界溶剂。将此超临界溶剂加热加压到临界压力之上而成为超临界流体。然后搅拌混合此混合物与超临界流体。使所得超临界混合物于爆碎槽中释向大气压。由此得以高效地将所述分散介质分散到溶剂中。
申请公布号 CN1185990A 申请公布日期 1998.07.01
申请号 CN97113670.X 申请日期 1997.06.24
申请人 株式会社井上制作所 发明人 上和野满雄;仁志和彦;井上芳隆
分类号 B01F13/00 主分类号 B01F13/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 温大鹏;杨松龄
主权项 1.利用超临界状态的分散方法,其特征在于:将分散介质与溶剂混合成的混合物供给超临界容器,将超临界溶剂供给该超临界容器内,加热加压使该超临界溶剂从气相状态变成为超临界流体,但上述混合物与此超临界流体在超临界容器内混合,然后将上述混合物与超临界流体的超临界混合物导入爆碎槽,在爆碎槽内释向大气压,与碰撞部发生碰撞,分散上述分散介质。
地址 日本神奈川县