发明名称 반도체 공정챔버의 진공장치
摘要 <p>공정챔버와 진공펌프 사이에서 누설이 발생하는 것을 용이하게 검증할 수 있는 반도체 공정챔버의 진공장치가 개시되어 있다. 본 고안은, 반도체소자 제조공정이 진행되는 공정챔버와 펌핑동작을 수행하는 진공펌프가 개폐동작을 수행하는 게이트밸브가 설치된 진공라인으로 연결구성된 반도체 공정챔버의 진공장치에 있어서, 상기 공정챔버와 상기 게이트밸브 사이에 드로틀밸브가 설치됨을 특징으로 한다. 따라서, 드로틀밸브의 누설여부를 용이하게 확인할 수 있으므로 공정이 원활하게 진행될 수 있는 효과가 있다.</p>
申请公布号 KR19980015805(U) 申请公布日期 1998.06.25
申请号 KR19960029074U 申请日期 1996.09.12
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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