| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체소자 제조장치의 백-스트림(Back Stream) 방지회로에 관한 것으로, 진공반응관과, 그 진공반응관에 반응가스를 공급하는 가스공급부와, 상기 진공반응관의 압력을 조절(Control)함과 아울러 이물질 및 잔류가스를 배출하는 진공/배기부 및 비상사태시 상기 진공/배기부를 통해 진공반응관의 진공을 파괴하기 위한 진공파괴부와, 상기 가스공급부와 진공/배기부 및 진공파괴부를 구성하는 각 밸브 및 펌프를 구동제어하는 제어장치로 구성되는 반도체소자 제조장치에 있어서, 상기 제어장치가, 진공파괴부의 진공파괴용 밸브를 구동제어하는 솔레노이드 밸브와, 소정의 구동신호를 인가받아 상기 솔레노이드 밸브를 구동제어하는 것으로 소정의 시간만큼 지연동작하는 타임릴레이와, 상기 타임릴레이를 구동제어하는 콘트롤러 및 조작스위치를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 반도체소자 제조장치의 백-스트림 방지회로는, 제조장치에 비상사태(Emergency)가 발생하는 경우, 진공파괴용 밸브가 진공/배기부의 메인밸브나 서브밸브가 완전히 닫힌 후에 열림으로써, 진공반응관의 진공상태를 해제시켜 장치의 손상을 방지함과 아울러 배기가스가 상기 진공반응관으로 역류하는 것을 방지하는 효과가 있다.</p> |
