플라즈마 식각장치

摘要

본 고안의 플라즈마 식각장치는 반응챔버 내에 플라즈마 식각가스를 발생시켜 반도체웨이퍼를 식각하는 식각장치로써, 반응챔버 내 설치되어 반도체웨이퍼가 안착되는 웨이퍼안착부와, 웨이퍼안착부에 안착된 반도체웨이퍼 가장자리 근처에 설치되어 웨이퍼 상의 식각가스의 측면흐름을 방지하는 가두리링을 포함하여 이루어진다.