核径迹防伪膜的制造方法

摘要

本发明涉及一种核径迹防伪膜的制造方法,包括下列各步骤:选用透明塑料薄膜为原料,用反应堆产生的中子轰击铀－235产生的裂变碎片幅照塑料薄膜,再利用紫外线通过成像底片或模板对辐照后的塑料薄膜成像,最后用化学试剂对塑料薄膜进行选择性部分蚀刻,或利用印刷机把抗蚀刻的物质按图案要求印刷在塑料薄膜上,再用化学试剂对塑料薄膜进行选择性蚀刻,即为本发明的产品。本发明具有设备简单、易于实现规模生产,成品率高等优点。

主权项

1、一种核径迹防伪膜的制造方法，包括下列各步骤：(1)、选用厚度为5-25μm的透明塑料薄膜为原材料，利用核反应堆产生的中子轰击铀-235放出的裂变碎片辐照塑料薄膜，反应堆功率为1-5000千瓦，辐照时间为0.1-300秒，或利用高能离子加速器产生的重离子来辐照塑料薄膜，辐照时间为0.5-200秒；(2)、利用紫外线通过成象底片或模板对辐照后的塑料薄膜成象，紫外线灯功率为500-2000瓦，灯与薄膜的距离为0.1-50cm，成象时间为10秒-180分钟；(3)、用化学试剂对上述成象后的塑料薄膜进行选择性部分蚀刻，蚀刻剂为NaOH、KOH或H2SO4溶液，蚀刻时间为1-180分钟，蚀刻出清晰的图案后，洗涤晾干，即为本发明的核径迹防伪膜。