| 摘要 |
Установка для отмывки и нанесения композиции на полупроводниковые пластины, содержащая вращающийся от центрифуги рабочий столик с отверстием для вакуумного присасывания, дозирующие устройства, защитный кожух, механизм подачи пластин и механизм приема обработанных пластин, которые расположены по разные стороны установки относительно рабочего столика, отличающаяся тем, что механизм подачи пластин имеет центрирующие шторки, выполненные наклонно, нижний размер которых соответствует диаметру обрабатываемой пластины, вакуумные присоски обоих механизмов перемещения пластин закреплены на каретках, имеющих общие для них направляющие, соединенные с помощью рычагов с пневмоцилиндрами, а рабочий столик выполнен с возможностью подъема и опускания и снабжен защитным кожухом с кольцом-ловушкой, выполненной по периметру кожуха под острым углом разбрызгиваемому потоку воздуха с отработанными частицами и имеющий резервуар для отработанных частиц, а также около рабочего столика размещен щеточный узел с двумя щетками для отмывки пластин. |
