发明名称 组合式围篱
摘要 一种组合式围篱,包含有一主架体、一副架体、一支架体、一主架体饰头、及一支架体饰头,其中该主架体饰头及支架体饰头系分别包含有一头部及一插合部。该主架体内设有复数个纵向强化室,且于该等纵向强化室间至少设有一横向通孔,其中每一强化室之外壁上系分别延设有一挡止件;该副架体系穿设于上述主架体之通孔中,包含有一副架本体、及一副架盖体,其中该副架本体系具有一容室,而该副架盖体系用以盖合该副架本体之容室;该支架体系配设于上述副架体上,其中间部系设有复数个固结层;该主架体饰头与该支架体饰头系分别插合于上述主架体及支架体上,其头部及插合部间系至少凹设有一沟槽。
申请公布号 TW334049 申请公布日期 1998.06.11
申请号 TW086216066 申请日期 1997.09.20
申请人 张光永 发明人 张光永
分类号 E06B9/01 主分类号 E06B9/01
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼;康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种组合式围篱,包含有一主架体、一副架体、一支架体、一主架体饰头、及一支架体饰头,其中该主架体饰头及支架体饰头系分别包含有一头部及一插合部,其特征在于:该主架体内设有复数个纵向强化室,且于该等纵向强化室间至少设有一横向通孔,其中每一强化室之外壁上系分别延设有一挡止件;该副架体系穿设于上述主架体之通孔中,包含有一副架本体、及一副架盖体,其中该副架本体系具有一容室,而该副架盖体系用以盖合该副架本体之容室;该支架体系配设于上述副架体上,其中间部系设有一固结部;该主架体饰头与该支架体饰头系分别插合于上述主架体及支架体上,其头部及插合部间系至少凹设有一沟槽。2.如申请专利范围第1项所述之组合式围篱,其中该组合式围篱更包含有一结合元件,该结合元件之一端系结合于上述副架体端部之容室壁上,其一端系抵止于上述主架体之强化室外的挡止件。3.如申请专利范围第1项或第2项所述之组合式围篱,其中该支架体系设有一卡槽,该卡槽系用以卡合上述副架体。4.如申请专利范围第1项所述之组合式围篱,其中该主架体内之两挡止件间的距离与上述支架体之宽度相当。5.如申请专利范围第1项所述之组合式围篱,其中该副架本体之容室的宽度系为上述支架体之厚度的2偣。6.一种组合式围篱,包含有复数个主架体、副架体、支架体、及主架体饰头,其中该主架体饰头系包含有一头部及一插合部,其特征在于:该主架体内设有复数个纵向强化室,且于该等纵向强化室间至少设有一横向通孔,其中每一强化室之外壁上系分别延设有一挡止件;该副架体系穿设于上述主架体之通孔中,且具有一容室;该支架体之端部系嵌设于上述副架体之容室中;该主架体饰头系插合于上述主架体上,且其头部及插合部间系至少凹设有一沟槽。7.如申请专利范围第4项所述之组合式围篱,其中该组合式围篱更包含有复数个结合元件,各结合元件之一端系结合于上述副架体端部之容室壁上,其一端系抵止于上述主架体之强化室外的挡止件。8.如申请专利范围第4项所述之组合式围篱,其中该等支架体系直立地嵌合于上述副架体之容室中。9.如申请专利范围第4项所述之组合式围篱,其中该等支架体系斜立地嵌合于上述副架体之容室中。10.如申请专利范围第4项所述之组合式围篱,其中该主架体内之两挡止件间的距离与上述支架体之宽度相当。11.如申请专利范围第4项所述之组合式围篱,其中该副架本体之容室的宽度系为上述支架体之厚度的2偣。图示简单说明:第一图系本创作之第一实施例之外观示意图。第二图系本创作之第一实施例之上视剖面图。第三图系本创作之第一实施例之侧视图。第四图系本创作之副架体的断面图。第五图系本创作之支架体的断面图。第六图系本创作之主架体容置支架体之说明图。第七图系本创作之副架体容置支架体之说明图。第八图系本创作之主架体饰头之立体图。第九图系本创作之支架体饰头之立体图。第十图系本创作之主架体饰头插合于主架体之立体分解图。第十一图系本创作之支架体饰头插合于支架体之立体分解图。第十二图系本创作之第二实施例之侧视图。第十三图系本创作之第二实施例之上视剖面图。第十四图系本创作之第二实施例之外观示意图。第十五图系本创作之第三实施例之支架体的立体图。第十六图系本创作之第三实施例之外观示意图。
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